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Mentor.Graphics.Calibre.2016.1.Linux\
運行環境:Win9X/Win2000/WinXP/Win2003/
軟件語言:英文
軟件類型:國外軟件 - 其它行業 - 生物醫學
授權方式:商業版
軟件大小:未知CD(請聯系我們客服)
推薦星級:
更新時間:2017-03-19 09:07:00
聯系方式:暫無聯系方式
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軟件簡介

 Mentor.Graphics.Calibre.2016.1.Linux\寄生參數萃取軟件

Calibre?是業界唯一完整的實體驗証與次波長解決方案,Calibre實體驗証套裝工具,包括Calibre DRC與Calibre LVS在內,可確保積體電路實體設計遵守代工製造規格要求,元件功能也符合原設計規格。針對次波長設計,Calibre則利用階層式驗証引擎提供一組套裝工具,可以新增或建立模型,並且驗証四種主要的解析度強化技術,分別是光學製程修正(OPC)、相位移光罩(PSM)、Scattering Bar和偏軸照明(OAI)技術。身為實體驗証工具市場領導者,Calibre已成為許多廠商採用標準,包括全球最大的整合元件製造商、晶圓代工廠商以及深次微米元件庫供應商。

 

Calibre產品家族介紹:

Calibre DRC & LVS

Calibre產品家族已迅速成為深次微米實體驗證與次波長可製造性的業界標準工具,並為設計規則檢查(DRC)、佈局與線路對比檢查(LVS)、晶片與佈局對比檢查、以及電氣規則檢查(ERC)等應用帶來快速可靠的解決方案。設計復度正不斷增加,電路元件的體積也越來越小,Calibre工具的發展已將這兩項趨勢列入考慮,並採用特殊架構以滿足未來設計挑戰。

 

Calibre內建咚閾蕵O高的階層式佈局處理引擎,可以在執行設計規則檢查、佈局與線路對比檢查、電氣規則檢查和晶片與佈局對比檢查時,提供前所未有的咚闥俁齲渙磽膺€有光罩可製造性與強健性的分析與強化工具,它們會以光學製程修正和相位移光罩的形式與Calibre完全整合。由於核心引擎的功能極為強大,因此將來還會持續增加更多新功能,以充份利用它的開放式架構。

 

與設計方式無關(Design Style Independence)的重要性

 

Calibre的所有組態設定都是以標準驗證規則格式(Standard Verification Rules Format)為基礎,它的設計讓工作規則編寫人員(rule deck authors)覺得很熟悉,並足以執行最復雜的深次微米檢查。由於Calibre與設計方式無關,同一組規則可用於展平式(flat)或階層式方法,也可用於不同的設計方式 - 不必針對特定設計進行調整,也不必使用任何輔助檔案;相反的,Calibre會使用一套獨特、已通過實際考驗的演算法,包括Selective Promotion?、Hierarchical Injection?和Bin Injection?,它們能自動分析和利用設計階層架構的重復部份,減少驗證周期時間,不必使用者提供設計的階層架構資訊。

產品主要優點:

? 最佳工作效能:Calibre採用高效率處理引擎,可在數小時內提供扁平式與階層式演算法的咚憬Y果,不像以前需要數天時間;另外還有多緒執行的功能選項,可大幅增加驗證速度。

 

? 龐大處理容量:Calibre對於階層式設計的處理容量幾乎毫無限制,2GB或更多的記憶體存取能力可以協助客戶發展大型設計專案;它也支援64位元作業系統,並提供4GB以上定址能力,多緒執行選項可以大幅提升工作效能,而且每顆處理器只須增加1-2%記憶體。

 

? 與設計方式無關:只有Calibre驗證工具才能針對所有設計方式,提供操作簡單的全自動階層分析與最佳化能力,不但讓執行過程更有效率,也不會影響工作效能。

 

? 最佳化的可製造性處理能力:所有設計規則檢查工具中,只有Calibre完全整合晶片與佈局對比檢查,可自動找出微影程序問題;它提供先進的天線檢查能力、自動的平坦化填充功能(planarization fill)和以規則為基礎的光學製程修正,為使用者帶來一套完整的可製造性處理流程。

 

? 使用簡單:Calibre產品線提供一套可立即使用的解決方案,能自動轉換舊規則檔案,並在結果顯示環境內(Calibre RVE?)以圖形操作方式輕易完成除錯工作,故能整合至任何設計環境。簡單又強健可靠的規則檔案語法讓程式設計更容易。

Calibre DESIGNrev

Calibre DESIGNrev:快速的全晶片顯示和設計迭代(Design Iteration)

從第一次功能整合開始,一直到成功tape-out為止,對於必須整合與組合完整晶片的工程師來說,這是一個漫長艱辛的過程。隨著設計的大小和復雜度不斷增加,傳統佈局編輯工具已缺少足夠處理容量,無法快速有效的顯示、修改和儲存佈局資料,即便是對整顆晶片的GDSII檔案執行一些簡單工作,例如開啟、顯示、修改和儲存,就可能需要數個小時才能完成,也使得tape-out時程被白白耽誤。

 

Calibre DESIGNrev可以迅速載入、顯示和儲存大型GDSII檔案,加快全晶片設計的完成和tape-out時間;此外,Calibre DESIGNrev還允許工程師迅速縮放局部設計、尋找和修復實體驗證錯誤、並且很方便的重新執行Calibre DRC和Calibre LVS。

 

產品主要優點

?只須數分鐘即可開啟數個GB大小的GDSII檔案:這項能力可以大幅縮短Tape-Out時間。

 

?強健可靠的修改能力:剪下、復製、貼上、刪除、移動和更多功能,復原及重復執行的次數也不受限制,使用者還可以存取本地GDSII資料庫內的資料,包括多邊形、線段(edge)、文字、cells、instances、陣列和更多。

 

?快速高效率的迭代迴圈:快速的GDSII檔案載入、顯示、錯誤辨認、錯誤更正和重新執行其它工具,使用者可以很方便的重新驗證整個設計,也可以只驗證資料被修改的部份。

Calibre DESIGNrev協助Tape-Out準時完成

在全晶片除錯過程中,工程師必須重復執行實體驗證、錯誤辨認、錯誤更正和重新驗證等步驟,這不但需要很長的時間,管理也非常困難。特別是晶片成長速度極快,已超過佈局編輯工具的能力范圍,例如若使用早期的工具,開啟一個2GB檔案最長可能就要八個小時;此外,大型資料庫也會拖慢標準顯示功能(畫面展開、縮放?等等),儲存檔案時可能又要多等待數個小時。

 

其它替代方法也未能解決這些問題,例如放置與繞線工具就缺乏強大的修改能力。資料庫管理也很困難,專屬資料庫的編輯結果不一定為最終GDSII檔案所截取,GDSII瀏灠工具雖能加快顯示速度,卻不允許修改或更正。

 

Calibre DESIGNrev是大型檔案除錯的最佳解決方案,可確保Tape-Out準時完成。

 

Calibre DESIGNrev採用高效能Calibre多邊形引擎

Calibre DESIGNrev是Calibre家族一員,提供Calibre使用者熟悉的速度和容量,可在數分鐘內開啟和存取數個GB大小的檔案,佔用的RAM記憶體空間也只有幾分之一。

Calibre DESIGNrev 重要特色

快速彈性的顯示功能
Calibre DESIGNrev允許使用者替每一層命名、指定每一層的顏色和填色方式、隱藏某些數值(cull values)、為常用視窗(view)設定書簽(bookmark)和更多功能。

GDSII修改更簡單
不同於GDSII資料顯示工具,Calibre DESIGNrev允許使用者透過標準編輯功能,例如剪下、復製、貼上、新增、刪除、移動和中斷,操作本地GDSII資料庫中的物件,包括cells、instances、多邊形、線段和文字。

更容易發現錯誤和重新執行實體驗證
Calibre DESIGNrev也能和Calibre RVE緊密整合,提供更快的錯誤辨認以及資訊交互顯示(cross-probing)功能;和Calibre Interactive搭配使用時,Calibre DESIGNrev還允許使用者啟動執行Calibre DRC和Calibre LVS兩套工具,使用者可以驗證和再驗證整個設計,也可以只驗證被修改的部份設計。

 

支援可客製設定的tcl/tk巨集
Calibre DESIGNrev支援開放式標準的tcl/tk巨集語言,使用者可根據自己需求,客製設定這套工具;一個已事先定義的巨集函式庫即利用這項功能,此巨集函式庫會呼叫常用的Calibre DRC功能。

作業系統支援
在所有其它Calibre產品也支援的平臺上,Calibre DESIGNrev可提供32和64位元支援,以下是建議的系統組態:HP-UX 11.0, 11i;Linux RedHat 7.0, 7.2;Solaris 7, 8。

 


Calibre RET (OPC and PSM)

包括Calibre OPCpro?、Calibre ORC?與 PSMgate?在內,Calibre家族次波長工具是業界首套功能完整的實體驗證與可製造性解決方案;透過將光學製程修正、相位移光罩以及Scattering Bar技術緊密整合至業界標準實體驗證工具Calibre DRCTM和Calibre LVS?,Calibre解決方案可提供精確的硅晶片成品、最快速的作業完成時間(Turn-Around-Time)與更高的製造良率。此外,就算您的設計包含一億顆或更多電晶體,還必須準確更正與檢驗多個光學製程修正層與相位移光罩修正層,您仍能享受這些優點,而且在一夜之間完成所有工作。

 

Calibre可製造性產品系列將解析度強化技術(光學製程修正、相位移光罩以及Scattering Bar)與深次微米實體驗證業界標準整合在一起,為生產工程師帶來一套獨特系統,包含全晶片的批次作業工具,並提供最快速的作業完成時間。

 


產品主要優點:

?精準的次波長晶片:就算電路結構小於光波長,Calibre的先進技術也能保證每次都精確轉印至晶片上。

?單一執行程序,單一咚閭幚恚瑔我灰巹t檔案(One run, one job, one deck):Calibre的實體驗證與次波長可製造性技術已完全整合,只須使用一組工作規則,就能將現有流程輕易升級至新一代技術。

?降低生產成本:Calibre提供「易於光罩製造」的光學製程修正與相位移光罩輸出,讓光罩成本減至最低,並大幅縮短寫入作業的總時間。

?彈性的光學製程修正選擇:Calibre可選擇使用以規則為基礎的光學製程修正,或是以模型為基礎的光學製程修正,前者將咚閾棖鬁p至最少,后者提供最完整的更正能力,就算搭配相位移光罩也是一樣;透過這項彈性,Calibre確保每一輪作業都使用最適當的光學製程修正技術。

?速度更快的晶片:完整的相位移光罩解決方案,讓您做出體積更小但速度更快的電路佈局。

Calibre Interactive

Mentor Graphics的Calibre Interactive?是Calibre全晶片實體驗證工具的最佳拍檔,設計人員可在他們熟悉的積體電路佈局環境中,直接執行Cell與功能方塊的互動驗證,這些環境包括益華電腦的Virtuoso?與Mentor Graphics自己的IC Station?。

 

由於Calibre與Calibre Interactive都使用同樣的規則檔案,設計團隊可選擇Calibre實體驗證工具套件,讓它做為整個實體設計流程的單一實體驗證解決方案,同時支援Cell與功能方塊以及全晶片驗證。這種做法可以避免驗證流程未同步所造成的差異,也不必因為採用多家廠商的驗證工具,而重復執行一些系統維護工作。

 

Calibre Interactive的處理模組也與Calibre全晶片驗證工具完全相同,這確保它和Calibre一樣,都能提供強健可靠的作業能力與精準的處理結果;Calibre不但是業界認可的標準驗證工具,也是市場領導產品,

 

Calibre Interactive重要特色

 · 從常見佈局環境中即可輕易使用這套工具,包括益華電腦的Virtuoso以及Mentor Graphics的IC Station

 

 · 允許Cell與功能方塊設計人員直接執行設計規則檢查、佈局與線路對比檢查以及電氣規則檢查功能,不必在驗證時鎖定佈局編輯器的使用權

 

 · 使用的規則檔案與Calibre相同,故能提供單一驗證流程,避免多個流程引起的資料差異與重復維護工作

 

 · 操作簡單的圖形使用者界面,可輕易重復執行Cell及功能方塊驗證

 

 · 強大的RVE驗證結果顯示環境,佈局與電路圖資訊交互顯示、彈性的驗證結果選擇與排序以及佈局短路顯示功能(electrical shorts isolation),可以省下大量除錯時間

 

 · 區域性設計規則檢查(Area DRC),大幅縮短除錯過程的驗證周期時間

 

 · 採用強大的Calibre處理模組,提供同樣強健可靠的驗證能力與精準處理結果

 

 · 可以使用主要晶圓代工廠商精準且已通過認證的大量Calibre規則檔案,包括特許半導體、IBM、臺積電與聯電。

Calibre Mask Data Preparation (MDP)

把Calibre效能帶給光罩資料準備
從積體電路設計到晶圓光罩製作,Calibre MDP產品線讓此流程更加完整;這組套件把解析度強化技術,例如相位移光罩、Scattering Bars和光學製程修正,所需要的資料操作咚悖╠ata manipulations)擴大延伸至光罩資料格式轉換,而且整個過程只須執行一個批次作業程序。Calibre還提供獨特的階層式幾何處理功能,包括各層佈局推導(layer derivation)、鏡射、縮放比例(scaling)、旋轉、平坦化填入(planarization fill)、全部和局部的大小調整(sizing)。流程最后會提供常用的光罩讀寫機格式輸出,包括次波長領域的先進光罩製作資料格式,例如MEBES和Variable-Shaped-Beam(VSB)格式以及GDSII;此外,階層式光罩規則檢查(MRC;Hierarchical Mask Rule Checking)以及光罩近接效應修正(MPC;Mask Proximity Correction)也屬於支援范圍。另外還有操作簡單的瀏灠顯示工具,可更快完成問題區域的評估。

產品主要優點:

?整合式單一工具的光罩資料產生流程:輕鬆擴大Tape-Out驗證和解析度強化技術的應用范圍,使其也能支援光罩資料準備作業。

?階層式幾何處理:加快作業完成時間(Turn-Around Time),並將資料量減少。

?以高效率將GDSII輸入檔案直接轉換為光罩讀寫機格式:使光罩讀寫機發揮最佳效能。

?階層式光罩規則檢查(MRC):迅速完成設計的可製造性評估,避免光罩製作過程必須中斷(stops)而浪費大量時間

?彈性的SVRF命令語言:允許透過以規則為基礎的調整方式,執行光罩近接效應修正程序。

?使用簡單:圖形導向操作工具,更容易顯示結果和執行驗證。

 

光罩資料準備流程的演進

 

 


 

附圖:從佈局至晶片製造,Calibre為此流程帶來高效率的單一工具解決方案。

Calibre進入光罩資料準備領域

Tape-Out工程人員和光罩製造商都面對資料量和咚銜r間大幅增加的問題,原因在於設計的規模越來越龐大,工程師為了改善積體電路製造結果,也必須採用更復雜的解析度強化技術,例如光學製程修正、相位移光罩和Scatter-Bars。

 

為將設計資料轉換為光罩讀寫機格式,傳統方法會使用一種「展平式」(FLAT)形狀處理引擎,其中包含各種幾何處理步驟;但隨著設計復雜度的增加,這種方法已無法滿足實際應用要求,因此廠商已開始採用其它替代工具,例如Calibre,由它們執行部份的處理功能,特別是幾何處理。MDP是Mentor Graphics最新的Calibre套件,它會把全部必要功能整合至單一工具軟體流程,並與解析度強化技術所須的資料操作步驟完美結合在一起,成為一套高效率、採取批次作業模式,而且包含所有步驟的的處理程序。佈局完成后,資料操作步驟的復雜度也會增加,再加上光罩製作的周期時間又很短,因此需要完整深入的可製造性檢查(MRC)。

 

 

附圖:針對光罩讀寫機的資料格式化功能讓Calibre擁有從設計到製造的完整流程

 

結合Calibre階層式規則檢查功能和操作簡單的顯示工具,即可在製造晶片前迅速完成全晶片的檢查。

Calibre MDP產品系列概述

? Calibre DRC、DRC-H,包括設計規則檢查、光罩規則檢查和光罩近接效應修正功能

? Calibre FRACTUREm

? Calibre VSB Formats

? Calibre MDPview

? Calibre RVE(結果顯示環境)

 

 

依賴已通過實際考驗的技術

Calibre階層式形狀處理引擎(Calibre DRC、DRC-H)是光罩資料準備套件的核心,也是許多其它工具的引擎,例如Calibre OPCpro、Calibre PSMgate、Calibre ORC和其它工具。根據「儘量利用階層式架構」的原則,這套引擎在處理資料時,會採用已通過實際考驗資料庫演算法,例如Selective Promotion、Hierarchical Injection和Bin Injection;結合這些演算法和多緒執行能力,這套引擎可以更快完成處理作業。

很高的資料完整性(data integrity)

Calibre FRACTUREm會將已準備好進行光罩製作的設計資料匯出為MEBES光罩讀寫機格式,大量客戶測試證明它的資料完整性可以和傳統分割工具(fracturing utility)相媲美;透過Calibre統一、階層式的處理方法,它可以加快龐大資料的執行時間,並使檔案變得更小。

最佳化資料轉換使光罩讀寫機提供更高產出率

輸出格式也已最佳化,並經過大量測試驗證,確保光罩讀寫機的工作最有效率。Calibre MDPview可輕鬆快速的顯示輸入GDS資料、處理過程的任何中間狀態、以及任何支援格式的最后分割輸出檔案。透過結果顯示環境的整合除錯界面,系統可用高亮度標示光罩規則檢查發現的任何問題,並迅速完成分析和修正。

彈性強大命令有效執行幾何形狀處理

利用SVRF命令語言,Calibre可執行許多幾何處理步驟,包括全部和局部的資料大小調整(data sizing)、旋轉、鏡射、縮放比例、光罩顏色反轉(tone reversal)、多層布林咚悖╞oolean layer operation)、平坦化填入(planarization fill)和資料off-setting。設計人員可在混合命令文稿(combined script)的不同輸入層上,混合使用多個不同命令與功能,以規則為基礎的光罩近接效應修正也可加入命令文稿檔案。

幾何處理功能

 


 

 


 

附圖:針對光罩讀寫機的資料格式化功能讓Calibre擁有從設計到製造的完整流程

 

確保光罩的可製造性

製作光罩前,必須先評估資料集是否符合光製作限制,這是非常重要的一點;Calibre允許您利用一組可程式彈性規則(MRC),執行快速可靠的光罩製作規則檢查。Calibre OPCpro可以線上強制執行(in-line enforcement)光罩製作約束條件,確保執行光學製程修正程序時,線路的移動不會抵觸光罩約束條件。錯誤輸出很容易在REV上面評估,它是Calibre的互動式結果顯示環境,並已整合至絕大多數常見的積體電路佈局編輯器,或是Mentor Graphics自己的顯示工具,例如MDPview、DESIGNrev、Calibre WORKbench以及Calibre LITHOview。

::::::English Description::::::

 

Calibre LVS

Industry standard physical verification tool for layout versus schematic.

Provides method for accurate device parameter extraction with integration to Calibre xRC 
Allows virtually unlimited capacity for hierarchical designs 
Offers easy-to-use automatic analysis and optimization of hierarchy for execution efficiency across all design styles 
Seamless interface within many design environments 
 
Benefits
 
Unparalleled performance and capacity 
Highest accuracy verification 
Enables accurate post-layout simulation 
 
 

Calibre DESIGNrev

Calibre DESIGNrev offers fast loading and visualization of multi-gigabyte GDSII layout data.

Allows large designs to be opened rapidly 
Supports automatic chip finishing operations through a TCL programming API 
Allow users to cut, copy, paste, delete, move and more with unlimited undo/redo function; and access native data within the GDSII database, including polygons, edges, text, cells, instances, arrays and more. 
Fast, streamlined iteration loop through integration with Calibre Interactive and RVE 
Quick GDSII loading, viewing, error identification, modification and re-invocation 
 
Benefits
 
Dramatically reduces time to tape-out 
Allows convenient re-verification of the full design, or only the data that has been modified 
Efficiently automates chip finishing tasks 
 
 

Calibre RET (OPC and PSM)

The Calibre product line’s sub-wavelength resolution enhancement tools are the first complete physical verification and manufacturability solution.

Ensure accurate simulation and correction 
Minimizes data expansion with an advanced hierarchical database engine 
Fully integrated physical verification and RET technologies make it easy to upgrade an established flow from layout-to-silicon with next-generation technology 
Ensures that just the right amount of RET is applied for each run 
 
Benefits
 
’Mask-friendly’ OPC, PSM, and fracture format output minimizes mask costs and lowers overall write times 
Complete PSM solution enables layout of fast, small gate 
Complementary products:
Calibre OPCsbar – Scattering bars
Calibre TDopc – Table-driven OPC
Calibre PSMgate – Phase shift mask assignment for gates
Calibre WORKbench – Environment for creating accurate process models and tested production-ready tool setup files
Calibre LITHOview – subset of Calibre WORKbench
Calibre Printimage – Simulated silicon print image
Calibre Interactive

This interface provide users with the capabililty to access data in industry standard formats (GDS, spice netlists) from the SVDB directory after a Calibre LVS-H run

Enables interactive cell/block and full-chip verification 
Flexible, customizable interface 
Speeds the iterative process of physical verification through direct invocation from layout window 
Allows users to make iterative verification runs very quickly 
Supports "runsets" that contain settings such as rule file names, run directories, etc. 
Uses environment variables for further customization and flexibility 
 
Benefits
 
Seamless integration with popular design environments preserves the investment in EDA tools 
Saves time by allowing users to re-verify only the portion of the design that has been altered 
 
 

Calibre MDP

Calibre MDP tool suite allows for seamless continuation of the data manipulations required for resolution enhancement techniques (RET), such as phase shift mask (PSM), scattering bars (SB) and optical and process correction (OPC) to the mask data format conversion in one batch run.

Seamless extension of tape-out verification and RET into mask data generation. 
Supports optimum mask writer performance 
Allows for quick assessment of manufacturability of the design, preventing time-consuming stops in the mask making process 
Enables mask proximity correction (MPC) via rules based adjustments 
Allow for easy visual assessment and verification of the results 
 
Benefit Highlights
 
Fast turn-around time and data volume containment helps manage mask cost 
Seamless integration in verification environments preserves the investment in EDA tools 

軟件聲明

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